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母盘生产工艺对形成信息坑的影响
【作者】:南昌光盘制作   【添加时间】:2007-8-4 9:17:33  

影响信息坑形状的因素很多,如刻录激光的波长、光斑大小、光路校准状态、光路设计、光刻胶的类型和厚度、刻录激光功率、显影液浓度、显影时间等。假设多数因素相对稳定,刻录光斑越小,信息坑的几何尺寸越小;光刻胶膜层越厚,信息坑越深;随着显影时间的增长,信息坑的坑壁也随之变陡。

 

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